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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:日本ULVAC愛發(fā)科蝕刻裝置重慶販賣

  • 產(chǎn)品型號:NE-7800H
  • 產(chǎn)品廠商:ULVAC愛發(fā)科
  • 產(chǎn)品價格:0
  • 折扣價格:0
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
蝕刻裝置 高密度等離子 干法蝕刻設備 ULHITE TM NE-7800H
詳情介紹:
蝕刻裝置

高密度等離子
干法蝕刻設備ULHITE TM NE-7800H

高密度等離子干蝕刻設備 ULHITE TM NE-7800H 是一種多室型低壓、高密度,支持蝕刻 FeRAM 中使用的難蝕刻材料(鐵電體、貴金屬、磁性薄膜等) 、MRAM、ReRAM、PCRAM等。是等離子刻蝕設備。

特征

  • 磁場ICP(ISM)法-低壓高密度等離子體處理非揮發(fā)性材料的專用機
  • 我們提供從常溫到高溫(400oC)的蝕刻解決方案,層壓薄膜的批量蝕刻和硬掩模的去除。
  • 通過從腔室到排氣管線和 DRP 的均勻加熱來進行倉庫測量。
  • 在抑制維護清潔成本和顆粒產(chǎn)生的結構和材料以及加熱機制等非揮發(fā)性材料的蝕刻方面具有豐富經(jīng)驗的量產(chǎn)設備。
  • 實現(xiàn)長期重現(xiàn)性和穩(wěn)定性。

采用

  • FeRAM、MRAM、ReRAM、CBRAM、PcRAM等

規(guī)格

物品 規(guī)格
設備配置 磁帶室/自動裝載機
運輸室
蝕刻室
預熱室(可選)
前后處理室(選配)
可加工板尺寸 6.8 英寸
膜式 鐵電/高介電材料、磁性材料、電極材料等
面內(nèi)均勻度 ± 5% 或更少
等離子源 ISM(磁場 ICP)
基板電極溫度 ~ 400oC ± 5oC
沉積措施 法拉第屏蔽機構/頂板加熱機構/保護板加熱機構等
工藝配方編輯方法 多步法
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