主營產(chǎn)品:
光學(xué)儀器、光學(xué)材料、實驗儀器、手動工具、焊接工具、焊接材料、儀器儀表、靜電設(shè)備、靜電輔料、工業(yè)器材、氣動元件、電工電氣、測量工具、計量設(shè)備、氣動工具、電動工具、化工設(shè)備、化工輔料、點膠設(shè)備、小型設(shè)備、儲存設(shè)備、物流設(shè)備、工業(yè)安防、**防護(hù)、包裝材料、切削工具、切削材料、辦公設(shè)備、辦公文 具、工裝夾具、測試治具、機械加工。設(shè)備等。
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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
蝕刻裝置
間歇式天然氧化膜去除劑
上升TM -300
詳情介紹：
批量型自然氧化膜去除裝置 RISE TM -300 是一種批量型預(yù)清洗裝置，可支持 LSI 深觸點底部等難以去除的自然氧化膜。兼容 300 mm 的目標(biāo)晶圓。
特征
- 實現(xiàn)高吞吐量和低 CoO
- 良好的蝕刻均勻性（<±5%/批次）和重現(xiàn)性
- 干法
- 無損傷（遠(yuǎn)程等離子和低溫工藝）
- 將自對準(zhǔn)接觸電阻降低到傳統(tǒng)濕法工藝的一半
- 靈活的設(shè)備布局
- 強調(diào)可維護(hù)性
- 一次批量處理 50 300 毫米晶圓
采用
- 自對準(zhǔn)接觸形成的預(yù)處理
- 電容器形成過程中的預(yù)處理
- 外延生長過程中的預(yù)處理
規(guī)格
| 模型 | 上升TM -300 | |
| 等離子源 | 微波電源 | |
| 設(shè)備配置 | EFEM + LL + PM | |
| 板尺寸 | Φ300mm | |
| 董事會階段 | 陶瓷舟（50張/批） | |
| 排氣系統(tǒng) | 機械增壓泵 + DRP | |
| 控制系統(tǒng) | FAPC+TFT觸控面板 | |
| 氣體導(dǎo)入系統(tǒng) | 3個系統(tǒng) | |
| 應(yīng)用 | SAC、電容器、外延生長的預(yù)處理 | |
